某半导体器件生产制造工业企业因晶圆的洗涤流程造成含氨废水进行处理，储水量200吨/天。废水进行处理中除氟化物外还包含的氟化物和轻微高价属，进行处理一定的难度大。本土废气排放耍求氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水组分及來源 晶圆的洗涤焦化废水（通常来历）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀道工序焦化废水：含轻微铜、镍等巨资属，pH值下降大 CMP粉磨废水处理：含硅小粒及挥发酚 清理方法步骤 应用"普通机械积累+膜剥离 +折点氯化"搭配组合工艺技术： 预净化处理 ：加药CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置整体 ：清掉0.01μm以上的顆粒物 反加入精炼 ：将氧化还原电位精浓至1000mg/L大于 折点氯化 ：准确控住氯加药量，将高锰酸盐指数生成为N2 阳离子变换 ：服务保障高价属及格 最终能够视觉效果 化学需氧量稳定的＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属浓度达不到检则限 水回收率达75% 污泥处理引起量减轻40%