某半导体除理器除理器研发厂在晶圆加工生产操作过程中，便用硅烷参与硅外延性萌发，尾气排放洗條塔引发高溶度含硅废渣。废渣含有pH变化大（2-11）、硅分量高的基本特征，中国传统除理措施易出現硅垢堵塞了现象。 废污水因素及的来源 化工废水通常成分表为： 融解性硅酸盐 ：SiO₂浓度值达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢腐蚀钠 ：洗洁塔酸性洗洁液残余物 粒状硅 ：納米级SiO₂电解质溶液 痕量砷 ：化学原料杂物带往 正确处理加工步骤 去创新适用"两极采和+膜吸附+多效蒸发凝结"艺： 1级结合 ：用CaO调高pH至4-5，生成二维码硅酸钙结晶，硅的还原率60%。 五级结合 ：加Na₂CO₃将pH加强至9，进两步积淀余量硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透膜系统的 ：0.02μm瓷器膜过滤系统nm级硅颗粒状，通量稳定性在80LMH。 MVR多效冷却器 ：浸提高盐污废水 ，凝结出Na₂SO₄副产物的，水中水回用率超90%。 结果是的效果 总硅从1500mg/L高于5mg/L下面 砷含碳量从0.8mg/L低于0.01mg/L 系统软件无积灰作业大于2年 几乎每年收购磷酸钠尖晶石约800吨