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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8英尺晶圆生产销售线配套设施的超软水系统化,天天生成含硅焦化废水150吨。焦化废一般的水都虽无巨资属,但硅的含量高易积灰,且电阻器率需实现18MΩ·cm就可以工业企业废水处里。原先的处里方法无发要求新公布的《电子设备工业企业水的空气污染物污染物标》(GB39731-2020)特点污染物标准值。 污废水 部分的特点 包括环境固体废弃物 :氢氧化铁硅(200-300mg/L)、顆粒硅(孔径0.1-1μm) 唯一性规范 :TOC<10μg/L,硼分量<5μg/L 水质量性 :低水的电导率(<50μS/cm)但硅氧化物体型繁杂 净化处理技术程序流程 信息化主要包括"梯级膜转移+电去铝离子"团体工艺设备: 微滤预治疗 :1μm工业陶瓷膜过滤大颗粒剂硅,通量提升80LMH 阴阳离子互换聚酯树脂 :D201大孔树酯会抑制性过滤硅酸碳原子 二次元RO系统性 :独一段回报率60%,第一段采用了高脱硼膜零件 EDI电去阳离子 :瞬时电流规格2A/m²,持续性避开多余阴离子 太阳光的紫外线消毒 :254nm红外光谱线服用量40mJ/cm² 枝术特色 规划设计专用的阻硅剂(有机肥料胺类塑料物),延长时间膜环保问题时期3倍 EDI功能模块革新流道的设计,硅快速清理率增强至99.8% 高清在线硅解析仪(估测范围图0.1-500μg/L)推动正确把控 执行工作成效 经再者方验测: 总硅从280mg/L减少为0.05mg/L 硼水平从8μg/L高于0.3μg/L 设计利用率从原40%增强至68% 膜更新频次拉长至5年,年作业成本低较低35%

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