大型项目背景图 广州某半导体设备厂的生产整个过程中一同带来高硅电镀化工废水处理方法（SiO₂ 500-800mg/L）和含氟电镀化工废水处理方法（F⁻ 200-300mg/L）。有两种电镀化工废水处理方法相混容易转变成氟硅酸溶液，传统式化学沉垫法易于稳定可靠达到。工程项目需要数据同步除去硅和氟（直接环保排放标准规范：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废气化学物质及来自 首要基本成分 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 原因 ：晶圆刻蚀废渣、CMP碾磨废渣、专用设备冲洗器水 治疗生产技术方法 分工协作悠长岁月中关键时期 ： 二级反响池 ： 第1 级加药Ca(OH)₂转换CaF₂和CaSiO₃乳浊液； 其次级加药系统PAC（聚合物氯化铝）升级二沉池。 固液破乳时期 ： 超滤膜设备 ：进行0.02μm管径膜部件截流固体硅和微细滤渣物。 深浅脱氟价段 ： 几丁质酶钝化铝吸咐塔 ：残余物氟阳离子吸出清理。 进而体验 出水出水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远不同于的国家规定。 反渗透装置系統通量不稳在15LMH，普通机械家电清洗定期延长时间至60天。 污水经压滤后含水分率＜65%，可按普通固体废物处理救治。